GB/T 38976-2020 推荐性国家标准
GB/T 38976-2020 硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法
GB/T 38976-2020 硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法。该标准状态为现行，2020-07-21 发布，2021-06-01 实施。全文PDF下载。
CCS H17
GB/T 39145-2020 推荐性国家标准
GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法。该标准状态为现行，2020-10-11 发布，2021-09-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 39144-2020 推荐性国家标准
GB/T 39144-2020 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法
GB/T 39144-2020 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法。该标准状态为现行，2020-10-11 发布，2021-09-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 41153-2021 推荐性国家标准
GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法。该标准状态为现行，2021-12-31 发布，2022-07-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 37211.3-2022 推荐性国家标准
GB/T 37211.3-2022 金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
GB/T 37211.3-2022 金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法。该标准状态为现行，2022-12-30 发布，2023-04-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 42276-2022 推荐性国家标准
GB/T 42276-2022 氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法
GB/T 42276-2022 氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法。该标准状态为现行，2022-12-30 发布，2023-04-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 35306-2023 推荐性国家标准
GB/T 35306-2023 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
GB/T 35306-2023 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法。该标准状态为现行，2023-08-06 发布，2024-03-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 24582-2023 推荐性国家标准
GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法。该标准状态为现行，2023-08-06 发布，2024-03-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 1558-2023 推荐性国家标准
GB/T 1558-2023 硅中代位碳含量的红外吸收测试方法
GB/T 1558-2023 硅中代位碳含量的红外吸收测试方法。该标准状态为现行，2023-12-28 发布，2024-07-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 11073-2025 推荐性国家标准
GB/T 11073-2025 硅片径向电阻率变化测量方法
GB/T 11073-2025 硅片径向电阻率变化测量方法。该标准状态为现行，2025-10-31 发布，2026-05-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 29056-2025 推荐性国家标准
GB/T 29056-2025 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
GB/T 29056-2025 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法。该标准状态为现行，2025-10-31 发布，2026-05-01 实施。全文PDF下载。
GB/T 4326-2025 推荐性国家标准
GB/T 4326-2025 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法
GB/T 4326-2025 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法。该标准状态为现行，2025-10-31 发布，2026-05-01 实施。全文PDF下载。